電子工業潔淨室（廠房、車間）所要求的基本空氣潔淨度級別如芯片製造ISO要求空氣潔淨度各個工藝環節略有不同，氧化、擴散、清晰、刻蝕、離子注入、CMP等ISO要求達2~5級，控製粒徑0.1~0.5μm，光刻工藝要求達到1~4級，控製粒徑在0.1~0.3μm。

電子工業潔淨用房大而多變，幾千平方米，上萬平米的麵積並不少見。電子工業的技術更新快，工藝變了，平麵布局就要跟著變，因此平麵不宜有固定的分隔，特別是很小的分隔。

具體來說有以下一些獨特之處應加注意：

電子工業潔淨廠房的工藝布局應適應電子產品發展的靈活性，滿足產品生產工藝改造和擴大生產的需求。

主體結構適宜采用大空間及大跨度柱網，不宜采用內牆承重體係。

大型電子工業潔淨廠房常采用上技術夾層、下技術夾層這種“夾心”式多層構造。

應考慮大型生產工藝設備的安裝、維修要求，設置必要的運輸通道和不影響潔淨生產環境的安裝口或檢修口。

電子工業潔淨室按二級耐火等級設計。

特種氣體的儲存和分配間應有耐火隔牆與潔淨室（區）分開，該牆耐火極限不低於1h。有毒的矽烷或其混合物氣瓶儲存區至少三麵是敞開的，氣瓶與周圍構築物或圍欄之間的距離應大於3m，儲存區設置的雨篷應不低於3.5m。

電子工業潔淨室的裝飾材料不得采用釋放對電子產品有影響物質的材料。

電子工業潔淨室允許設空氣風淋室，這是和一般生物潔淨室不同的。風淋室應與潔淨工作服更衣室相鄰。單人風淋室按最大班人數為30人一間設計，當工作人員超過5人時，應設旁通門，當人數太多或為了縮短通過時間，也可設隧道式吹淋室。

高級別潔淨室，為了盡可能不影響氣流的單向性、平行性照明燈具宜采用所謂淚珠形燈具。

電子工業潔淨室常根據生產工藝要求設置防靜電環境，以便抑製靜電的產生，將已產生的靜電迅速、安全地排除。

為此，在設計時首先要明確控製的靜電電位（絕對值），該值<100V為一級，<200V為二級，<1000V為三級（據《電子工業潔淨廠房設計規範》），其適用場所分別是半導體器件、集成電路和具有一級靜電敏感的電子產品製造和測試場所；對靜電敏感的精密電子儀器和器件製造和測試場所；除去一、二級以外的電子器件和整機的組裝調試場所。